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(특집) 포토공정 심화 정리7편. Mask(Reticle)이란

(특집) 포토공정 심화 정리7편. Mask(Reticle)이란
1. PHOTOMASK 포토마스크(Photomask)는 반도체 제조 공정에서 사용되는 중요한 요소로, 나노미터 단위의 패턴을 실리콘 웨이퍼 위.. / 1. PHOTOMASK 2. PHOTOMASK 재질 및 제작 방법 3. Photomask 검사 공정 4. Photomask의 결함들 5. Mask의 종류Bright field & Dark field mask 6. Photomask 구성 / 1. PHOTOMASK 포토마스크(Photomask)는 반도체 제조 공정에서 사용되는 중요…
방송통신 > 기타  |  5page  |  3,000 원



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