(특집) 포토공정 심화 정리7편. Mask(Reticle)이란

1. PHOTOMASK

포토마스크(Photomask)는 반도체 제조 공정에서 사용되는 중요한 요소로, 나노미터 단위의 패턴을 실리콘 웨이퍼 위에 전사하는 데 필요한 매개체이다. 포토마스크는 일반적으로 유리 기판 위에 패턴이 있는 불투명한 재료로 구성되어 있다. 이 패턴은 포토리소그래피 공정에서 빛이 통과할 수 없는 부분과 통과할 수 있는 부분으로 구분된다. 포토마스크는 마스크와 레티클(reticle)이라는 두 가지 형태로 존재하는데, 레티클은 종종 웨이퍼에 직접 노출되는 작은 부분(다이)만을 포함하는 반면, 마스크는 여러 개의 다이를 포함할 수 있다. 포토마스크를 만드는 과정은 정밀하며, 고해상도의 패턴을 생성하기 위해 여러 단계를 거친다. 먼저 기본 유리 기판에 얇은 금속막, 일반적으로 크롬을 증착하여 불투명한 이미지를 형성한다. 이후에 포토레지스트를 사용하여 표면에 원하는 패턴을 형성하고, 이후 화학적 처리나 물리적 방법으로 잔여 포토레지스트를 제거하여 최종 포토마스크를 만들어낸다. 이 과정에서 패턴의 정밀도가 높을수록 생산되는 반도체의 성능이 향상된다. 포토마스크는 고해상도의 패턴을 정확하게 웨이퍼에 전사하기 위해 중요하다. …(생략)