ITO Scribing , Cleaning 예비

1. 실험 목표

ITO Scribing & Cleaning 실험의 목표는 ITO(Indium Tin Oxide) 박막을 정밀하게 분할하고, 이를 손상 없이 효과적으로 청소하여 후속 공정에서 최상의 전기적 및 광학적 특성을 보장하는 것이다. ITO는 전도성과 투명성을 동시에 갖춘 소재로, 태양광 패널, 디스플레이 등 다양한 전자 및 광학 기기에 필수적으로 사용된다. 따라서 ITO의 정밀 가공 및 청소 과정은 최종 제품의 성능과 직결되며, 이는 전반적인 공정 품질과 수율에 큰 영향을 미친다. 본 실험에서는 ITO 전극의 패턴화 과정에서 발생할 수 있는 다양한 문제를 해결하고, 이를 통해 ITO 박막의 기능을 최대한 구현하는 것이 중요하다. Scribing 과정에서는 레이저 또는 다이아몬드 날을 사용하여 ITO 박막을 정밀하게 절단하는 기술을 활용한다. 이러한 과정에서 발생하는 열이나 기계적 스트레스는 ITO의 전기적 특성에 부정적인 영향을 미칠 수 있으므로, 최적의 가공 조건을 설정하고 이를 유지하는 것이 필수적이다. 또한, 청소 과정에서는 ITO 표면에 남아있을 수 있는 오염물질이나 잔여물을 효과적으로 제거하여 전극의 전도성을 유지하고, 후속 공정에서의 접착력이나 전하 이동 특성…(생략)