(특집) 포토공정 심화 정리8편. 노광설비의 종류와 Mask Aligner의 설비구조

1. Lithography methods(노광방식)

노광방식은 반도체 제조 공정에서 필수적인 단계로, 회로를 웨이퍼의 패턴에 전사하는 과정이다. 이 과정은 주로 다양한 노광 기법을 통해 이루어지며, 각 기법은 특정 요구 사항 및 기술 발전에 따라 선택된다. 가장 대표적인 노광 방식으로는 스탬프 노광, 감광액 노광, 그리고 레이저 노광 방식이 있다. 스탬프 노광 방식은 마스크와 웨이퍼 간의 접촉을 통해 패턴을 전사하는 방식으로, 미세한 구조를 고정밀도로 전사하는 데 유리하다. 이 방식은 대량 생산에 적합하며, 잘 설계된 마스크를 사용하여 반복적으로 높은 정확도로 패턴을 생성할 수 있다. 그러나 접촉 방식 특성상 마스크와 웨이퍼 사이의 오염 또는 손상이 문제로 발생할 수 있으며, 이러한 위험을 줄이기 위해 보다 정밀한 장비와 관리가 필요하다. 다음으로, 감광액 노광 방식은 Photoresist라 불리는 감광 물질을 이용하여 그림을 그리는 방식이다. 이 방법은 웨이퍼에 감광액을 도포한 후 UV 빛을 통해 특정 파장의 빛을 조사하여 감광액을 노출시키고, 이후 화학적 공정을 통해 패턴을 형성한다. 감광액의 물리적 특성과 노광 조건에 따라 다양한 패턴을 생성할 …(생략)