[고분자재료실험] ITO scribing , cleaning 결과레포트 (만점)

1. 실험목적

이번 실험의 목적은 ITO(Indium Tin Oxide) 기판에서 스크라이빙 및 세척 과정을 통해 ITO의 물리적 특성과 표면 상태를 최적화하는 것이다. ITO는 투명 전도체로서, 여러 가지 전자기기와 디스플레이에 널리 사용되며, 전기적 특성과 광학적 특성을 동시에 가지고 있어 중요한 재료이다. 따라서 ITO의 사용 용도에 따라 다양한 처리 과정이 필요하며, 이 실험에서는 특히 스크라이빙과 세척의 중요성을 탐구하게 된다. 스크라이빙은 ITO 기판의 특정 영역에 패턴을 형성하는 과정으로, 이 과정을 통해 전도성을 가진 구역과 비전도성 구역을 구분할 수 있다. 이는 전자 소자의 설계와 제작에 있어서 필수적인 단계로, 스크라이빙을 통해 원하는 형태의 전극 구조를 구현할 수 있다. ITO는 그 특성상 기판과의 결합력이 강한 편이지만, 스크라이빙 과정에서 발생할 수 있는 미세한 균열이나 불순물에 의한 손상은 소재의 전기적 특성을 저하시킬 수 있다. 따라서 이 실험에서는 스크라이빙이 마지막 물리적 형태와 전기적 특성에 미치는 영향을 분석하는 것이 핵심이다. 또한, 세척 과정은 스크라이빙 후 ITO 기판의 표면에 있는 잔여물과 오염 물질을 제거하는…(생략)