논문 Soft lithography for micro- and nanoscale patterning 을 한국어로 번역 및 요약한 내용.

1. Introduction

소프트 리소그래피는 미세 및 나노 스케일 패턴을 형성하는 혁신적인 기술로, 다양한 분야에서 널리 사용되고 있다. 이 기술은 주로 고분자 물질로 만든 마스크를 이용하여 표면에 정밀한 구조를 복제하는 방식이다. 소프트 리소그래피의 장점 중 하나는 유연성과 비용 효율성이 뛰어나다는 점이다. 전통적인 리소그래피 기술에 비해 소프트 리소그래피는 추가적인 복잡한 장비나 고비용의 마스크가 필요 없으며, 이로 인해 실험실 환경에서의 활용이 용이하다. 소프트 리소그래피의 기본 과정은 일반적으로 원형 물체의 표면에 고분자 재료를 침전시킨 후, 이를 경화시켜 패턴이 새겨진 몰드를 형성하는 것으로 시작된다. 이 몰드는 이후 다른 물질을 다루는 데 사용되며, 이를 통해 미세한 구조를 손쉽게 생성할 수 있다. 이 기술은 전자 소자, 생물학적 센서 및 나노 기계와 같은 광범위한 응용 분야에 적용될 수 있으며, 특히 생명 과학 및 재료 과학에서 큰 주목을 받고 있다. 소프트 리소그래피는 주로 폴리(dimethylsiloxane)와 같은 실리콘 기반 고분자를 사용하여 패턴을 형성하는데, 이 과정에서 고온 또는 진공 상태가 필요하지 않아서 많은 연…(생략)