[반도체공정및응용] HW4 Diffusion System, SIMS, Gettering

1. Diffusion system (equipment)

반도체 공정에서 확산 시스템은 중요한 역할을 한다. 확산은 불순물을 반도체 기판에 주입하여 전기적 특성을 조절하는 과정이다. 이 과정에서 사용되는 장비는 주로 고온의 진공 또는 비진공 환경에서 작동하며, 원하는 농도의 불순물이 균일하게 기판에 퍼지도록 돕는다. 확산 시스템의 주요 구성 요소는 반응 챔버, 열원, 가스 공급 시스템, 그리고 온도 및 압력 제어 장치이다. 반응 챔버는 기판이 위치하는 공간으로, 이곳에서 불순물이 기판으로 확산된다. 챔버 내부는 고온 환경을 조성할 수 있도록 설계되어 있으며, 일반적으로 800도에서 1200도 이상의 온도를 유지한다. 이러한 고온 환경은 불순물이 더 빠르게 기판에 침투할 수 있도록 한다. 반응 챔버는 기판을 이동시키거나 고정할 수 있는 장치가 장착되어 있어, 다양한 크기와 형태의 기판에 사용될 수 있다. 열원은 반응 챔버를 가열하는 역할을 한다. 전기 저항 가열 방식을 사용하는 경우가 많으며, 그 외에도 고주파 가열이나 레이에이저 가열과 같은 방식도 사용된다. 이 열원은 균일한 온도를 유지해야 하며, 기판의 온도 분포가 고르게 이루어져야 한다. 이렇게 하…(생략)