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1. 반도체 노광 공정 시장 점유율

반도체 노광 공정 시장에서 EUV(EUV Lithography) 기술은 최근 몇 년 간 크게 부각되었다. EUV는 높은 해상도를 구현할 수 있는 혁신적인 노광 기술로, 7nm 이하의 정밀한 반도체 회로를 제조할 수 있는 정밀도를 자랑한다. 이러한 특징 때문에 EUV 기술은 차세대 반도체 제조에 필수적이며, 다양한 반도체 기업들이 이 기술을 도입하고 있다. EUV 노광 장비는 기존의 DUV(Deep Ultraviolet) 노광 장비에 비해 생산성과 전반적인 제조 비용의 절감을 가능하게 하며, 이러한 특성 때문에 반도체 제조업체들은 EUV 기술을 채택하고 있다. 현재 반도체 노광 공정 시장은 크게 DUV와 EUV로 나뉘며, DUV의 점유율이 여전히 높지만 EUV의 시장 점유율은 급속히 상승하는 추세이다. 2023년 기준으로, EUV 노광기의 시장 점유율은 약 20%를 기록하고 있으며, 이는 예년과 비교하여 상당히 증가한 수치이다. DUV 장비에 비해 초기 투자 비용이 상당히 높지만, EUV 기술이 제공하는 높은 생산성 및 더 정밀한 회로 설계의 가능성으로 인해 많은 기업들이 EUV 장비를 도입하고 있는 상황이다. 반도체 제조 공정의 복잡성이 증가하면서, EUV의 필요성이…(생략)