Nonmetal Nitride h-BN, g-C3N4, Si3N4, SiON, P3N5-합성 및 특성 분석 report

I. Introduction

질소와 비금속 원소의 반응을 통해 합성된 질소화물은 다양한 화학적 및 물리적 특성으로 인해 현대 재료과학에서 중요한 위치를 차지한다. 본 레포트에서는 h-BN, g-C3N4, Si3N4, SiON, P3N5와 같은 비금속 질소화물의 합성 방법 및 특성을 분석할 예정이다. 이들 물질은 나노재료, 전자소자, 고온 내구성 재료 등으로서 광범위하게 응용되고 있으며 각기 다른 구조와 특성을 통해 다양한 산업 분야에서 주목받고 있다. h-BN(헤테로보로닌트라이드)은 벌크 형태와 나노 형태로 존재하며, 이차원 물질로서 그래핀과 유사한 구조를 가짐에도 불구하고 절연체로서의 특성을 지닌다. h-BN은 탁월한 열전도성과 내열성, 그리고 우수한 화학적 안정성 덕분에 반도체 산업에서 중요한 역할을 하고 있으며, 전자 소자의 절연층이나 열전달 소재로서 활용된다. g-C3N4(그래픽 질소탄소)는 그 구조가 그래핀과 비슷하지만, 질소와 탄소의 혼합물로 이루어진 이질 결정체로서 특히 태양광 에너지 변환 및 촉매 작용으로서 큰 가능성을 보여준다. 이 물질은 비금속으로서 자연적인 자원으로부터 합성이 가능하며, 환경 친화적인 특성을 지니고 있어 지속 가능한 개발에…(생략)