1. ¹ÝµµÃ¼ Device Á¦ÀÛ °úÁ¤(Si Base)
- p-type Si ±âÆÇ¿¡ »êȸ·À» ¼ºÀå½ÃŲ´Ù(Furnace).
¡ØÈÇÕ¹°Àº CVD°øÁ¤À» °ÅÃÄ »êȸ·À» Çü¼ºÇÑ´Ù.
- Spin Coater¸¦ ÅëÇØ PRÀ» µµÆ÷ÇÑ´Ù .
.....
2. Oxidation
- Si Substrate¿¡ dopant¸¦ implant or diffusion ½Ãų¶§ º¸È£¸·
¿ªÇÒ ¼öÇà
- Device°£ÀÇ Electricaly Isolation ±â´É(Field Oxide)
.....
3. Photo
- ¹ÝµµÃ¼ Device Á¦ÀÛ °øÁ¤Àº ¿©·¯ ÀçÁú(Oxide, Metal, Impurity,
etc)À» ¿øÇÏ´Â ÆÐÅÏÀ¸·Î ¿©·¯ ÃþÀ» Çü¼ºÇØ °¡´Â °úÁ¤À» ¸»ÇÑ´Ù.
.....
4. Etch ......
5. Metallization......
6. CVD ......
7. Ion Implantation......
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