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· 불활성가스 엑시머 레이저
불활성가스 엑시머 레이저는 불활성가스만으로 레이저를 생성하는 것으로 Xe2 엑시머 레이저(발진파장 172 nm), Kr2 엑시머 레이저(146 nm) 및 Ar2 엑시머 레이저(126 nm)의 3종류가 있고, 진공 자외영역에서 고출력이 얻어지는 레이저로서 주목되고 있다. 출력은, Xe2 엑시머 레이저에서 50 MW, Kr2 엑시머 레이저 및 Ar2 엑시머 레이저에서 십수 MW가 어느 것이나 펄스폭 약 10 ns로 얻어진다. 여기에는 현재까지 대형 전자 빛살 장치를 사용해야 하지만, 방전여기에 의한 발진이 실현되면 응용면에서 급속한 발전이 기대된다.
1) XeCl 레이져
XeCl 레이저는 Xe과 염화수소를 포함한 헬륨이나 네온 가스 속에서 방전을 일으켜 Xe과 염소로 된 여기 2 원자 분자를 형성하고, 그 해리 에너지에 상당하는 파장 약 308 nm에서 발진하는 자외선의 펄스 레이저이다. 현재 200 W급의 것이 시판 되고 있다. 미세 구멍뚫기 가공이 주요한 용도이지만, 최근에는 아몰퍼스 실리콘 박막을 폴리 실리콘화하여 전자 이동도를 높이는 레이저 어닐 공정의 응용이 주목되고 있다. 불활성 기체-할라이드 엑시머 레이저 가운데서는 …(생략)
2) KrF 레이저
3) ArF 레이저
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너지에 상당하는 193 nm
1) `레이저 원리 및 활용` 김기준, 이종선, 성기천, 양재웅, 이후설 共著, 대영사, 1997
2) `레이저 기초원리 와 응용`송순달 著, 청문각, 1999
3) `현대물리학` Arthur Beiser , 교보문고 , 1996
4) 두산 세계 대백과 사전
5) IHI ENGINEERING REVIEW, vol.28, 123.
6) 後藤 외, 엑시머 레이저에 의한 잉크제트 프린터용 헤드의 노즐 가공,
7) 제35회 레이저 열가공연구회지, vol.2, (1995)
8) `CD-ROM 으로보는 레이저과학` 공홍진, 김병태, 박찬웅, 윤근영, 조관식, 공역, 북스힐, 2002
9) 레이저와 청정가공, 이종명 著, 한림원, 2002
10) 레이저 기초원리와 응용, 송순달 著, 請文閣, 1999
11) 최신레이저가공학, 이백연 著, 삼성북스, 2002
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