Fabrication process of CMOS
(CMOS Á¦ÀÛ°øÁ¤)
¡á CMOS
p ä³ÎÀÇ MOS Æ®·£Áö½ºÅÍ¿Í n ä³ÎÀÇ ±×°ÍÀ» ¼·Î Àý¿¬ÇÏ¿© µ¿ÀÏ Ä¨¿¡ ¸¸µé¾î ³Ö¾î ¾çÀÚ°¡ »óº¸ÀûÀ¸·Î µ¿ÀÛÇϵµ·Ï ÇÑ °ÍÀ¸·Î, ¼Òºñ Àü·ÂÀº ¥ìW Á¤µµÀÌ°í µ¿ÀÛÀº °í¼Ó, ÀâÀ½ ¹èÁ¦¼ºÀÌ ÁÁ´Ù. Àü¿ø Àü¾ÐÀÇ ³ÐÀº ¹üÀ§¿¡¼ µ¿ÀÛÇÏ°í, TTL¿¡ ÀûÇÕÇÏ¸ç µ¿ÀÏ È¸·Î ³»¿¡¼ °øÁ¸ °¡´ÉÇÏ´Ù. ÆҾƿô ¿ë·®µµ Å©´Ù.
¼Òºñ Àü·ÂÀÌ ¸Å¿ì Àû´Ù´Â ÀÌÁ¡À» °¡Áö¸ç ÈÞ´ë¿ë °è»ê±â, ÀüÀڽðè, ¼ÒÇü ÄÄÇ»ÅÍ µî¿¡ ³Î¸® ä¿ëµÇ°í ÀÖ´Ù. ºÎ°¡ÀûÀÎ ³»¿ëÀ¸·Î ¼ÒÇü ÄÄÇ»ÅÍ¿¡¼ ¸»ÇÏ´Â CMOS ¼Â¾÷À̶õ ¾î¶² Çϵåµð½ºÅ©°¡ ÀåÂøµÇ¾î ÀÖ´ÂÁö, VGA Ä«µå¸¦ »ç¿ëÇÏ´ÂÁö µî »ç¿ëÀÚÀÇ ¼ÕÀ» ÅëÇؼ CMOS¿¡ ÀúÀåÇÏ¿© ÄÄÇ»ÅÍ¿¡°Ô ¾î¶² ÁÖº¯±â±âµéÀÌ ÀåÂøµÇ¾î ÀÖÀ¸¸ç ¾î¶»°Ô Á¦¾î¸¦ ÇØ¾ß ÇÒÁö ¾Ë·ÁÁÖ´Â ÀýÂ÷ÀÌ´Ù. º¸Åë ´ÙÀ½°ú °°Àº °æ¿ì¿¡ CMOS ¼Â¾÷ÀÌ ÇÊ¿äÇÏ´Ù. Çϵåµð½ºÅ©¸¦ Ãß°¡º¯°æÇÒ °æ¿ì, µð½ºÅ© µå¶óÀ̺긦 Ãß°¡º¯°æÇÒ °æ¿ì CMOS ¼Â¾÷ÀÌ ÇÊ¿äÇÏ´Ù. ÃÊâ±â¿¡´Â µð½ºÅ©¿¡¼ ÆÄÀÏ ÇüÅÂÀÇ ¼Â¾÷ ÇÁ·Î±×·¥À» ½ÇÇàÇÏ¿´À¸³ª ÇöÀç´Â CMOS ¼Â¾÷ ÇÁ·Î±×·¥À» ¹ÙÀÌ¿À½º¿¡ ³»ÀåÇÏ°í ºÎÆÃÇÒ ¶§ ½ÇÇàÇÏ´Â ÇüÅ°¡ º¸ÆíÀûÀ¸·Î »ç¿ëµÇ°í ÀÖ´Ù.
¡á¡¦(»ý·«)
1) ¼¼Á¤
2) »êÈ
3) ¿¡ÇÇÅýÃ
4) ÁõÂø
|